光学反射镜用致密碳化硅涂层的制备方法

成果简介

致密的碳化硅（SiC）涂层是SiC陶瓷及其复合材料光学反射镜必不可少的组成部分，其功能是用来满足反射镜高的抛光精度要求。化学气相沉积（CVD）是唯一能实现致密SiC涂层制备的方法，其基本原理是：在一定的温度下，利用气态的SiC先驱体原料在基材表面上进行化学反应，生长出一定厚度的固态SiC沉积物（涂层）。

学校突破了CVD SiC涂层制备的各项关键技术，具备了大尺寸CVD SiC涂层制备的能力。目前，具有自主知识产权的CVD SiC涂层技术已非常成熟，其主要特点有：

1.高温抗氧化：温度高达1600℃时抗氧化性能仍然非常好；

2.纯度高、均匀、致密、颗粒细、无缺陷；

3.耐冲刷；

4.抗腐蚀性：耐酸、碱、盐及有机试剂。

该成果获得发明专利1项，主要适用于民用LED、光伏等产业，用于石墨和其它碳材料的表面改性，提高石墨和其它碳材料的耐环境性比如抗氧化、抗冲刷、耐腐蚀等性能。